多弧磁控濺射復合離子鍍膜技術是一種新型的真空離子鍍膜技術，它把多弧和磁控濺射兩種技術有機地結合在一起，來獲得性能更為優異的硬質膜和裝飾膜。它的基本原理是：在真空室中利用弧光（或輝光）放電所產生的能量將靶材（鈦等金屬或合金）直接蒸發（或濺射）離化生成金屬離子，并通過電場進行加速與反應氣體生成金屬化合物，最后沉積在工件表面。與通常的離子鍍膜方法相比,除可鍍制單一的膜層外（如TiN），還可鍍制各種復合多層膜層，乃至納米疊層膜層，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產品、醫療器械、儀器儀表等領域。